| 研究課題/領域番号 |
05555226
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| 研究種目 |
試験研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
工業分析化学
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
宮村 一夫 東京大学, 工学部, 講師 (40157673)
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| 研究分担者 |
河合 潤 京都大学, 工学部, 助教授 (60191996)
早川 慎二郎 東京大学, 工学部, 助手 (80222222)
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| 研究期間 (年度) |
1993 – 1994
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| キーワード | 全反射 / XAFS / 放射光 / 光電子 / X線励起電流 |
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| 研究概要 |
平成5年度に試料チャンバーを作成し、蛍光X線検出系、放出電子測定系、X線励起電流測定系を組み合わせ、斜入射条件のでの複合的な表面解析が可能な装置を完成した。平成5年度から6年度にかけて装置としての性能評価と固体表面への応用として、以下の3つの実験を行った。
1.斜入射条件での放出電子分光
全反射条件近傍の斜入射条件で放出電子分光を行うことで光電子、オージェ電子に対する非弾性散乱由来のバックグラウンドを低減させることが可能であることを示した。また、放出電子の視射角依存性から試料中での電子の減衰距離を実験的に求めた。
2.蛍光X線、X線励起電流検出の分析深さの差を利用した微粒子表面、内部の同時測定
石炭フライアッシュ中の硫黄について蛍光X線、X線励起電流検出によるXAFS測定を行い、前者から試料の平均的情報、後者から表面の情報を同時に測定した。
3.大気中でのX線励起電流検出による表面分析
大気中でのX線励起電流測定による表面選択的な測定に取り組み、放出電子による空気分子の電離放出電子による空気分子の電離により真空中での測定と比べて高感度であることを示した。
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