| 研究課題/領域番号 |
05555240
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| 研究種目 |
試験研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
有機工業化学
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
園田 昇 大阪大学, 工学部, 教授 (20083983)
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| 研究分担者 |
小川 昭弥 大阪大学, 工学部, 助手 (30183031)
柳 日馨 大阪大学, 工学部, 助手 (80210821)
神戸 宣明 大阪大学, 工学部, 助教授 (60144432)
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| 研究期間 (年度) |
1993 – 1994
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| キーワード | ヘテロ原子導入反応 / ラジカル付加 / 複合反応系 / ビニルスルフィド / アリルスルフィド / 光開裂 / ジセレニド触媒 / ラルル |
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| 研究概要 |
本研究では、硫黄、セレン、テルルなどのヘテロ原子の反応特性の解明、特にヘテロ原子をいくつか組み合せることにより誘起される複合効果を解明し、これに基づく高選択的ヘテロ原子導入法の確立を行うとともに、目的有用分子の高効率合成プロセスの開発を行った。得られた成果は次のように要約される。
(1)ジスルフィド、ジセレニド、ジテルリドは光照射により対応するカルコゲノラジカル種を与えるが、これらジカルコゲニドがラジカル機構により炭素-炭素二重結合に効率良く付加した例は知られていない。本研究では、これらジカルコゲニドの単独系における付加の問題点を速度論的に考察し、これに基づき、複合系の開発が炭素-炭素二重結合へのカルコゲン原子の高選択的導入に有効であることを示した。
(2)ジスルフィド-ジセレニド複合系を開発し、オレフィン類、アレン類、およびアセチレン類への位置選択的なチオ基、セレノ基の同時導入の新手法を確立した。複合系の有用性は、チイルラジカルの不飽和結合への高い反応性と、生成する炭素ラジカルに対するジセレニドの高い捕捉能力の両方の利点を同時に利用可能な点にある。
(3)ジスルフィド-ジテルリド複合系、ジセレニド-ジテルリド複合系を開発し、アセチレン類およびビニルシクロプロパン類への位置選択的なチオテルロ化およびセレノテルロ化に成功し、テルルを不飽和結合にラジカル的に導入する新方法論を示した。
(4)共役ジエンのジチオ化が同族のジセレニドの触媒反応として制御できることを見いだし、この原理をジテルリド触媒によるアレンのジチオ化に応用した。以上のように、単独系では困難なヘテロ原子の導入が、これらヘテロ原子の複合系を用いることにより、高選択的かつ高効率で達成可能なことを明らかにした。本研究で示された複合系の原理は広範囲の応用が可能であり、これを用いることにより、目的有用分子の高効率合成が迅速に達成される。
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