| 研究概要 |
本研究期間中に得られた主な成果を以下に記す。
1)Si基板上へのBaTiO_3ナノ結晶薄膜の作製
Si基板上にC_6H_5NHC_3H_6Si(OMe)_3-SAM薄膜を形成し、この基板をアニリンモノマー塩酸酸性溶液中に浸漬後、重合させ導電性ポリアニリン(PANI)薄膜を形成した。この高分子電極上に厚さ10μm以上のBaTiO_3ナノ結晶薄膜をEPD法により作製する技術を確立した。(J.Eur. Ceram. Soc. 28,101-108(2008)に発表
2)モールドを用いないITO透明電極上へのBaTiO_3ナノ結晶マイクロパターンの形成
ITO基板上に厚さ5μmのホトレジスト膜を作製し、リソグラフィ技術を用いて種々のパターン電極を形成した。このITOパターン電極とPt/Siなど、任意の導電基板を5μmのホトレジスト膜を挟んで対向させこのギャップ中にBaTiO_3ナノ粒子サスペンションを注入した後、EPD法により任意の導電電極上にITOパターン電極のパターンを転写したBaTiO_3ナノ粒子パターンを作製することに成功した。このモールドレスパターン技術はナノ結晶デバイスの新規作製法として期待される。(J. Electroceramicsに投稿中)
3)逆オパール中へのBaTiO_3ナノ結晶へのEPD充填
ポリスチレン球を充填して作製したオパールフォトニック結晶の間隙に、10nm-BaTiO_3粒子をEPD法により充填し、強誘電体逆オパールの作製に成功した。(J. Am. Ceram. Soc., 90, 4062-65(2007)に発表)
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