| 研究分担者 |
加藤 明良 成蹊大学, 工学部, 助教授 (00167339)
北村 房男 東京工業大学, 大学院総合理工学研究科, 助手 (00224973)
岡島 武義 東京工業大学, 大学院総合理工学研究科, 助手 (70194347)
徳田 耕一 東京工業大学, 大学院総合理工学研究科, 教授 (40016548)
|
|---|
| 研究概要 |
本研究は,"電極界面修飾"の概念を適用して,レドックス補酵素や活性酸素種(ROS)が関与する生体内電子移動反応を解明するためのモデル反応場を構築し,さらにこれらのレドックス反応場特性を解明することを目的として行われ,本年度は次の成果を得た。
1.フェノサフラニン及びその類縁体薄膜修飾電極は,ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド(NADH)の酸化を著しく触媒すること(生体系おけるフラビンアデニンジヌクレオチドによるNADHの酸化に匹敵する)を見い出した。15EA03:2.in situ EQCM法により,アルキルビオロゲンの単分子層自己組織化膜の酸化還元反応は,イオンと同時に多数の水分子の移動を伴うこと,そしてその結果として膜のモルフォロジー変化を誘起することを見い出した。
3.金電極上で,P-シアノ安息香酸陰イオンが電位に依存したフリップ・フロップ吸着現象を起こすことを,in situ FTIR法で明らかにした。
4.新しい電気化学媒体として注目されているポリエーテル中でのアルキルビオロゲンの特異的なレドックス挙動及び溶解・拡散現象を解明した。
5.ROSの"primary species"であるスーパーオキシドイオン(O_2^-)の水溶液系における電解生成と反応解析のための分子修飾電極システムを開発した。
|
