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[文献書誌] Hiroshi Tsuji: "High Current RF-Plasma-Sputter-Type Heavy Negative-Ion Source for Negative-Ion Implantar" Ion Implantation Technology-94. IIT94. 495-498 (1995)
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[文献書誌] Hiroshi Tsuji: "Charging Voltage Mesurement of an Isolated Electrode and Insulators during Negative-Ion Implantation" Ion Implantation Technology-94. IIT94. 612-615 (1995)
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[文献書誌] Hiroshi Tsuji: "Negative-Ion Implantation Technique" Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B. Vol. B96. 7-12 (1995)
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[文献書誌] Hiroshi Tsuji: "Fundamental Study on Powder-Scattering in Positive-and Negative-Ion Implantation into Powder Materials" (to be published in Applied Surface Science). (4) (1996)
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[文献書誌] Hiroshi Tsuji: "Charging Phenomenon of Insulators in Negative-Ion Implantation" (to be published in Applied Surface Science). (4) (1996)
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[文献書誌] 辻 博司: "イオン誘起二次電子分析による負イオン注入時のレジスト膜の帯電測定" 真空. 第38巻 第3号. 221-223 (1995)
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[文献書誌] 辻 博司: "負イオン注入における基板帯電モデルとその評価" 真空. 第38巻 第3号. 224-227 (1995)
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[文献書誌] 辻 博司: "負イオン注入技術" アイオニクス. 第21巻 第4号. 63-76 (1995)
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[文献書誌] 辻 博司: "負イオンビームによる粉末材料へのスキャッタレス・イオン注入" 電気化学協会第62回学術大会シンポジウム「粒子線を用いた次世代材料プロセス技術」論文集. 55-63 (1995)
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[文献書誌] 辻 博司: "負イオン注入における放出二次電子の測定" 第6回粒子線の先端的応用技術関するシンポジウム論文集. BEAM1995. 175-178 (1995)