| 研究概要 |
1.フェノール・(H_2O)_n水素結合クラスターイオン構造の赤外分光
独自に開発したイオントラップ法と波長可変光差周波を利用して発生する赤外光によるOH振動領域の振動分光法を結合して、サイズ選別したクラスターイオンの赤外分光法を開拓した。これを用いて、フェノール・水クラスターイオンの安定構造を、電子遷移および振動分光の両面から解析した。その結果、クラスター内プロトン移動がクラスターサイズに依存して起きることを見いだし、[PhOH-(H_2O)_n]イオンの安定構造が、n=1,2では非プロトン移動型[PhOH^+-(H_2O)_n],n≧3ではプロトン移動型[PhO-H^+(H_2O)_n]になることを明らかにした。観測結果に基づいて、クラスターイオンと中性クラスターの形態の相違について議論し、その一部を学術雑誌に公表した。
2.この方法を半導体プロセスの分野に応用する事を念頭に、内部状態や並進エネルギーを制御したイオン種によるエッチング加工のための基礎実験を行った。SF_6をKrFエキシマーレーザーにより光イオン化し、発生した種々のフラグメントイオン種を個別に捕捉して、それらの捕捉条件、生成条件を観測し、その一部を学術雑誌に公表した。これらイオンと半導体表面との化学反応の研究を推進することにより、原子層エッチングなど超LSI加工プロセスの核となる表面反応を研究している。
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