| 研究課題/領域番号 |
06555276
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| 研究種目 |
試験研究(B)
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| 研究機関 | 埼玉大学 |
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研究代表者 |
野平 博之 埼玉大学, 工学部, 教授 (50008819)
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| 研究分担者 |
青木 良夫 埼玉大学, 工学部, 助手 (00251140)
宮下 晃 埼玉大学, 工学部, 教授 (90132729)
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| キーワード | キラル / 光学分割 / 不斉合成 / 強誘電性液晶 / フッ素 / ホトクロミック / スピロピラン |
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| 研究概要 |
(液晶研究)
ジアステレオマ-法による光学分割により光学活性な3-トリフルオロメチルヘプタノールと3-トリフルオロメチルオクタノールを得て、これを用いて種々の強誘電性液晶を合成した。特に、液晶のコア構造を変化させて検討をおこない、トリフルオロメチル不斉骨格をもつ強誘電性液晶とコア構造との構造相関に関する知見を深めることができた。また、同じく光学分割法により得た光学活性な3-トリフルオロメチルノナノールを用いて、末端鎖がパ-フルオロ化された液晶を合成し、これを他のパ-フルオロの末端鎖をもつノンカイラルな液晶化合物と混合することにより、特異な特性をもつ強誘電性液晶混合物を調製した。この液晶混合物は、印加電圧によりその傾き角が大きく変化し、光変調素子の材料に応用できることがわかった。
(ホトクロミック)
スピロベンゾピランのラセミ体の8′位に光学活性なtrans-ベンズアミドシクロヘキサンカルボン酸基を導入しジアステレオマ-塩とした後、それらのラセミ化優先晶出法による光学分割により光学活性なスピロベンゾピラン得た。得られた光学活性スピロベンゾピランは、X-線結晶構造解析の結果、(+)-スピロベンゾピランの絶対構造R体であることを初めて明らかにした。興味深いことに、これらキラルなスピロピランは、溶液中、正フォトクロミズムを示し、紫外光照射による骨格異性化の際、エピマ-化することを比旋光度の変化、NMRスペクトルから明らかにした。さらに、暗所下において紫外光の照射なしでエピマ-化が起こることも明らかとし、動力学的検討の結果、そのエピマ-化の活性化エネルギーは約20kcal/molと算出された。
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