| 研究概要 |
本年度における研究実績は以下の如くである。
即ち Cu-Hf人工格子及びNi-Hf人工格子中のHf層内の、摂動角相関測定により Hf層内のHf局所構造はhcp構造から局所的に大きくゆらいだ構造を示していた。さらに その局所構造は C軸方向に ある程度配向した構造と より乱れた構造の混成であることがわかった。また Hf層の厚さが小さい場合
Hf核周辺の電場勾配が大幅に上昇することがわかった。
アニーリングにより Cu-Hf,Ni-Hf人工格子とも固相反応により非晶質かがすすむことがわかった。
非晶質化にともない電場勾配分析のブロードニング化が進行した。Ni-Hf人工格子の場合は アニーリング途中段階で複雑な金属間化合物をへて、非晶質構造に進行し、最終的に微結晶金属間化合物構造をとった。
人工格子 Cu-Hf,Ni-Hfの固相反応における非晶質化においてHf層内のHf構造の局所的ゆらぎが重要な要素になっていることがわかった。
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