| 研究概要 |
6-(p-メトキシビフェニロキシ)ヘキシル基をメソゲンとしたメタクリル酸エステルのアニオン重合は、、s-BuLi/1,1-ジフェニルエチレン/LiClを開始剤として-40℃、テトラヒドフラン中で行うと、分子量が制御された分子量分布が狭いポリマーを定量的に与えることを見いだした。さらに、リビングポリスチレンを開始剤にして、構造の明確なAB型ブロック共重合体の合成に成功した。本研究の目的である液晶発現温度と構造の関係を系統的に調べるため、その組成を20-80%、分子量を5千から4万まで変化させたブロック共重合体した。
そして単独重合体及びブロック共重合体のDSC測定により、スメクチックA液晶発現領域がポリマーやブロック共重合体の分子量や組成に大きく依存することを見いだした。さらにラメラ状にミクロ相分離したブロック共重合体を小角X線散乱で測定すると、液晶温度領域でドメインの周期が温度と共に減少する新しい現象を初めて明かにした。現在ブロック共重合体の分子量を10万まであげ、ミクロ相分離構造と液晶発現温度の関係をさらに詳細に検討している。
また、6-(p-シアノビフェニロキシ)ヘキシルメタクリラートのアニオン重合を試みた結果、シアノ基が存在するにもかかわらず、重合がリビング的に進行することを見いだした。さらに、このモノマーとスチレンからAB型、メチルメタクリラートとからAB型に加え、ABA、BAB型ブロック共重合体が任意の組成で合成出来ることを明らかにした。得られたポリマーは、ネマチック液晶相を発現し、これらの場合もまた、その分子量、立体構造(Tacticity)、さらにブロック共重合体では組成に大きく影響されることがわかってきた。しかしながら、上記の高分子液晶とはその依存性や構造が大きく異なり、現在検討中である。
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