|
超高圧電顕(1000kV)立体写真を用いると、厚い試料からの三次元情報を求めることができる。立体写真を解析するときには、焦点を合わせた像に含まれる焦点の外れた像点に対して平行投影近似を適用し、組写真上で対応点を決め、このときの視差から三次元座標を決めている。この意味において平行投影近似の適用限界をあきらかにすることは重要である。
これまでに試料位置における強磁場による効果で、理想的なレンズ条件においても照射の条件に応じて平行投影近似には有効厚さと分解能に応じた適用限界が光軸を中心とした領域に生じることをあきらかにしている。
最近、色収差が少ない条件のもとに試料位置における磁場の影響をできるだけ少なくして低倍における対物絞りによる視野制限を改善するために、新たに対物レンズ用ポールピースを作製した。その性能をみてみると、色収差係数を約1割程度大きくする条件で、磁場による電流中心のまわりの像回転を、これまでより約2割減少させることができた。
磁場の減少は、対物レンズの前磁場によるレンズ作用を弱くすることも意味しており、第二コンデンサーの励磁を変化させて電子線のクロスオーバーを試料の上側に位置させることにより広い範囲にわたって総合的な意味での試料上での照射電子線の平行性を改善できるので、高い分解能領域においても適当な対物絞りを使用することにより、広い範囲で三次元座標の解析精度の向上を計れることがあきらかとなった。
|
