| 研究分担者 |
BRAUNSTEIN P ルイ, パスツール大学・化学教室, 教授
SAUVAGE J.P. ルイ, パスツール大学・化学教室, 教授
猪俣 慎二 東北大学, 大学院・理学研究科, 助手 (50241518)
上野 圭司 東北大学, 大学院・理学研究科, 助手 (20203458)
飛田 博実 東北大学, 大学院・理学研究科, 助教授 (30180160)
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| 研究概要 |
1.二つの配位環境の異なる金属ユニットがホスフィド配位子によって架橋された幾つかの新しい鉄二核錯体および鉄-ルテニウム二核錯体を合成した。これらの錯体は,各種のアルキンおよびジヒドロシラン,ヒドロジシランと温和な条件で反応し,それぞれアルキン1分子または2分子を配位子の一部として取り込んだ錯体およびケイ素上の置換基の再分配を伴ったシリレン架橋錯体を与えることを見出した。
2.第1級または第2級ゲルマンはCp′Fe(CO)_2SiMe_3(Cp′=η^5-C_5H_5,η^5-C_5Me_5)と光照射条件で反応し,モノ(ゲルミレン)架橋二核錯体と共にビス(ゲルミレン)架橋二核錯体を生じること,および第1級ゲルマンとη^5-C_5Me_5錯体との反応では前例のないGe-H-Fe3中心2電子結合を2つ持つ二核錯体も生成することを見出した。
3.スルフィドまたはジスルフィド配位子によって架橋された鉄二核錯体を出発物質とする,混合配位子および混合金属型遷移金属-硫黄三核および四核クラスターの新しい系統的な合成法を見出した。
4.シリレン-遷移金属-シリル(Si=M-Si)という骨格上で,シリル基上の置換基が極めて温和な条件で1,3-転位を起こすことを,塩基の配位によって安定化されたシリル(シリレン)錯体を単離し,加熱によって可逆的に塩基を解離させるという方法で初めて確認した。
5.室温で容易にホスフィンを解離して16電子のイリジウム(I)化学種を発生する錯体の合成に成功し,この錯体にヒドロジシランを作用させると,ヒドロジシラン上の置換基の分子内転位により異性化が起こることを見出した。さらに,上記錯体を原料として,9族金属では初めてのシリル(シリレン)錯体の合成単離に成功した。
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