| 研究分担者 |
小宮 三四郎 東京農工大学, 工学部, 教授 (00111667)
巽 和行 名古屋大学, 理学部, 教授 (10155096)
榊 茂好 熊本大学, 工学部, 教授 (20094013)
磯邊 清 大阪市立大学, 理学部, 教授 (70101285)
伊藤 卓 横浜国立大学, 工学部, 教授 (50016721)
KOGA Nobuaki Nagoya University, Associate Professor (80186650)
WAKATSUKI Yosuo The Institute of Physial and Chemical Research, Research Manager (20087513)
TAKAHASHI Tamotsu Hokkaido University, Professor (30163273)
OSAKADA Kohtaro Tokyo Institute of Technology, Associate Professor (00152455)
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| 研究概要 |
各研究グループとも当初の計画に沿って研究を進め、以下の成果を挙げた。
第1研究グループでは「高度に機能化された単核錯体活性種の創製」に関して研究を進め、Moのポリヒドリド錯体に対する光照射によって高活性な配位不飽和種を発生させアミドのNH結合を切断することに成功した。また、鉄の窒素錯体から発生させた配位不飽和な活性種により、CO_2を捕捉し、活性化することに成功した。
第2研究グループでは「立体的・電子的に制御された多核錯体反応場の構築」に関して研究を進め、Ruの二核及び三核ポリヒドリド錯体と有機ケイ素化合物、共役ジエンとの反応を通して、多核錯体反応場では金属中心の機能分担による基質の協奏的活性化が起こることを実証するとともに、Rh-S-W骨格を有するクラスターの合成法を確立し、反応性と結合様式の相関を明らかにすることに成功した。
第3研究グループでは「高度に制御された錯体反応場での基質の変換」について研究を進め、アセチレン類とエチレンから合成することのできるジルコナシクロペンテンを合成中間体とする有機分子変換法を開発するとともに,カルボニルクラスター上でのNO分子のレドックス反応に関する重要な知見を得た。
第4研究グループでは「錯体反応場制御にむけての理論的アプローチ」のテーマで研究を進め、Pt(O),Pd(O)錯体へのSi-HおよびSi-Si結合の酸化的付加とM-H結合へのCO_2挿入反応について理論的検討を加えた。
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