| 研究課題/領域番号 |
07405038
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| 研究機関 | 九州大学 |
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研究代表者 |
高木 誠 九州大学, 工学部, 教授 (90037739)
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| 研究分担者 |
藤原 勇 山口大学, 理学部, 助手 (40190087)
宮島 徹 佐賀大学, 理工学部, 教授 (40128103)
前田 瑞夫 九州大学, 工学部, 教授 (10165657)
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| キーワード | 鋳型重合 / ラテックス / 分子認識 / 表面構造 / 分子刷り込み |
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| 研究概要 |
近年、分子認識を中心にして人工のホスト分子を積極的に設計・合成していく分野が急速に拡大している。我々の開発した新しい分子刷り込み法は、ラテックス粒子の表面一層に分子鋳型をつくる手法である。
これまでは主としてカルボン酸型の機能性モノマーによりラテックス合成を行ってきたが、今年度は新たにリン酸型の機能性モノマー(オレイル4-ビニルフェニルリン酸)を用いた。この機能性モノマーは分子内に確実に重合するビニル基を有している。これまでと同様にアミノ酸誘導体を鋳型分子とした鋳型樹脂を合成することを試みたが、機能性モノマーとアミノ酸誘導体が安定な複合体を作らず、正常な樹脂が得られなかった。
そこで、樹脂に対する吸着によって分子刷り込みの効果を評価することを変更し、高分子膜を基体として分子刷り込みを行い、膜電極型イオンセンサへの応用を試みた。合成したリン酸型機能性モノマーと有機カチオン(アセチルコリン、N,N-ジメチルモルホリニウム、N-メチルピリジニウムなど)とで塩を形成し、架橋剤ジビニルベンゼン、ラジカル開始剤、補助錯形成モノマーとともに膜にしみ込ませ重合し、分子刷り込み膜を作った。膜の支持体としては、空孔率の高いポリプロピレン不織布を用いた。このイオン感応膜は刷り込み分子に対して電気化学的応答を示した。完全なネルンスト応答はしなかったものの、定性的には刷り込み分子に対して効果的に応答した。分子刷り込み条件を最適化することにより、さらに選択的なイオンセンサを作ることができると思われる。
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