| 研究課題/領域番号 |
07407070
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| 研究機関 | 高知医科大学 |
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研究代表者 |
甲田 茂樹 高知医科大学, 医学部, 助教授 (50205332)
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| 研究分担者 |
豊田 誠 高知医科大学, 医学部, 助手 (90253351)
安田 誠史 高知医科大学, 医学部, 助手 (30240899)
大原 啓志 高知医科大学, 医学部, 教授 (00033209)
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| キーワード | 有害化学物質 / 医療労働者 / 暴露評価 / 連続的定量測定 / ホルムアルデヒド / エチレンオキサイド / 麻酔ガス / 換気システム |
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| 研究概要 |
2つの病院の手術室、中央材料室、病理検査室、内視鏡外来、病棟などを対象とし、笑気、イソフルラン、セボフルラン、エチレンオキサイド、ホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドの有害化学物質について、1302及び1303型マルチガスモニタと光学フィルタを用いて定量的連続測定を行った結果、手術室における笑気、イソフルラン、セボフルランの環境濃度は患者の呼気が管理されている場合でも、手術室内の換気システムによっては、麻酔科医、外科医、看護婦がそれぞれの許容濃度をはるかに越える高濃度の化学物質に曝露されていることが判明した。中央材料室のエチレンオキサイドでは、エアレーション機能付きの最新型の滅菌器の場合に、稼働時に1ppmを越える程度であったが、滅菌器を途中で止めて操作すると300ppm近くまで上昇していることが判明した。また、滅菌済みの在庫を保管しているところでも、許容濃度の1ppmを越えており、保管の仕方にも今後は十分な配慮が求められるべきである。病理検査室では局所排気不十分な環境下では瞬間的に8ppmになり、天井値を越えることが観察された。内視鏡外来や病棟でのグルタルアルデヒド使用についても、不十分な局所排気のもとでは許容濃度を超えていあた。個人曝露は一部実施したが、例数が少ないため、今後の課題として来年度にさらに検討していきたい。今年度までの研究から病院内の有害化学物質の曝露はその健康影響が懸念されるほど高濃度になる場合があり、作業環境管理だけでなく、適切な使用方法や高濃度からの曝露の待避などの作業管理を確立する必要があるだろう。
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