研究概要 |
申請者の研究課題「D-およびL-デオキシ並びに分枝デオキシフラノースの統一的一般合成法の開発」の本年度の研究実績の概要は以下のようである。 1.1-トメキシ-3-フェニルチオプロペンに塩基を作用させて対応するアリル陰イオンを発生させ、これと(R)-ベンジルグリシジルエーテルとを反応させた後、酸化的加水分解を行って(E)-δヒドロキシ-α-エナ-ルBnOCH_2CH(OH)CH_2CH=CHCHOを得た。水酸基をシリル基で保護後、アルデヒドを還元して、対応するアリルアルコールBnOCH_2CH(OSiR_3)CH_2CH=CHCH_2OH(I)に誘導した。これにD-酒石酸エチルを用いるシャープレス不斉酸化を施すと、目的のα,β-エポキシアルコールのみが得られた。これとベンジルアルコールとのルイス酸存在下での反応は、高位置選択的に進行し、近接ジオールBnOCH_2CH(OSiR_3)CH_2CH(OBn)CH(OH)CH_2OH(II)のみを与えた。ジオールのアセトニド化、シリル基とベンジル基の脱保護、新たに生成した近接ジオールのNaIO_4切断を用いるアルデヒド基の生成、最後に、残ったジオールアセトニドの酸による脱保護を経て、D-2-デオキシリボフラノースを合成した。 2.1.のD-2-デオキシリボフラノース合成において、(R)-ベンジルグリシジルエーテルの代わりに(S)-ブンジルグリシジルエーテルを、D-酒石酸エチルの代わりにL-酒石酸エチルを用いて同様に反応を行い、IIの鏡像体IIIを得た。シリル基の脱保護、近接ジオールのNaIO_4によるアルデヒド基の発生、最後のベンジル基の脱保護を行って、D-3-デオキシリボフラノースを合成した。 初めに企てた本研究の本年度の研究計画は、上述のようにほぼ達成されたと考えている。
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