| 研究概要 |
本研究では、弾性表面波によって材料を作成時にあらかじめ"胎教"し,その後、弾性波による屈折率変化を大幅に変化させようとする"薄膜胎教形成法"を提案した。
得られた成果は
1.高周波スパッタリング法によるNb_2O_5薄膜の成膜時に基板上に弾性表面波をあらかじめ励起させておいたところ、
(1)屈折率が約1%増加する
(2)光弾性定数が3〜6倍に大きくなる、
ことを初めて見い出した。
さらに、この"薄膜胎教形成法"の研究過程で、
2.弾性表面波定在波を励起しながらTa2O5薄膜を作成したところ、
(1)薄膜位相格子が容易に形成でき、膜厚変化は約1.78%,屈折率は約1.78%,屈折率は約12.5%と非常に大きい。
(2)二次元位相格子への応用:直交する弾性表面波定在波を用いて、2次元位相格子の作成を行い、非常に正確に配置されたドットが形成され、理想的な格子が容易に形成できることを示した。
この現象は弾性波によって材料をあらかじめ"胎教"し、その後、弾性波によって屈折率を大幅に変化させようとするものであり、人間における"胎教"と酷似している。無機材料の成長において、このような現象が起こることはこれまで全く報告されていない。さらに、弾性表面波定在波によって膜厚と屈折率が変化する"薄膜位相格子"が作成される現象もこの世界で初めて確認されたものである。本形成法は、他の材料にも応用可能であり、無機材料の成長メカニズムの解明と工学的応用が大きく期待される。
|
