| 研究分担者 |
比嘉 俊太郎 愛知工業大学, 工学部, 教授 (30064934)
林 二一 愛知工業大学, 工学部, 教授 (70074432)
渡辺 茂男 愛知工業大学, 工学部, 教授 (60064953)
古橋 秀夫 愛知工業大学, 工学部, 講師 (40229125)
山田 諄 愛知工業大学, 工学部, 教授 (30064950)
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| 研究概要 |
本研究の目的は,超伝導セラミックスをはじめとする酸化物系ならびに非酸化物系セラミックスを使用し,紫外線エキシマレーザーによりミクロンサイズの要求するパターン構造を製作する技術を確立することである.
研究実績・成果をまとめる.
1.セラミックスのレーザー加工(1)エキシマレーザー加工システム レーザー光の良質化に関する知見,回析モアレセンシングによる資料位置決めの高精度化に関する知見を得た.レーザー加工システムの最適化に関する基本特性を蓄積した.(2)セラミックス材料の作製 YBaCuO系超伝導体ならびにセラミックス-金属系傾斜機能材料を作製した.作製条件を変えた種々の資料を準備した.(3)セラミックスのレーザーアブレーション ストリークカメラ画像処理システムによりアブレーションプルームを可視化し,アブレーション機構の解明を行なった.(4)エキシマレーザーによる超微細加工 レーザー加工パラメータの最適条件を探り,ミクロサイズの加工ならびに表面処理実験を行った.セラミックスの非熱光化学反応過程による微細加工をエキシマレーザーアブレーション加工で実現した.
2.総合キャラクタリゼーション 三次元形状計測システムを用いて加工部の幾何学的形状,表面粗さ等の品質の検討を行った.電子顕微鏡で組成分布の解析を行った.光音響診断システムで形状ならびに材料組成診断を行った.
3.成果のまとめ 研究成果を学会誌・国際会議・学会研究会で発表し,報告書を作成した.
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