| 研究課題/領域番号 |
07455296
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| 研究種目 |
一般研究(B)
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| 研究機関 | 近畿大学 |
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研究代表者 |
中山 斌義 近畿大学, 理工学部, 教授 (60023313)
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| 研究分担者 |
中野 人志 近畿大学, 理工学部, 助手 (20257968)
橋新 裕一 近畿大学, 理工学部, 助手 (90156266)
久保 宇市 近畿大学, 理工学部, 教授 (80088335)
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| キーワード | レーザーインプランテーション / 表面改質 / セラミックス / 透明電極 / 生体親和性材料 / アルミナ / ハイドロキシアパタイト |
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| 研究概要 |
研究の進展状況と新たに得られた知見は以下の通りである。
1.表面導電性絶縁材料の場合
(1)SiO_2上にTiN薄膜を形成する事が出来た。そのシート抵抗は600Ω、透過率75%であり、良好な透明電極を形成する事が出来た。
(2)シート抵抗値及び透過率はレーザーショット回数に依存し、最適値を見つける事が出来た。
2.生体親和性材料の場合
(1)Al_2O_3上にハイドロキシアパタイト層を形成する事が出来た。
(2)形成されたハイドロキシアパタイト層の結晶性はレーザー照射によっても変化しない事が確認された。
(3)形成される層の厚みはレーザーショット回数、照射密度に依存する。
(4)層表面の凹凸は1μm程度である。
平成7年度に予定していた成果はおおよそ達成された。照射方法を工夫することで上記1、2の材料の開発が進んだ。しかし新たな問題点も出てきた。特に2については、現在は試料の片面のみにハイドロキシアパタイト層が形成されているが、生体に埋め込む場合は複雑な試料面全体に層を形成する必要があり、これを解決しなかればならない。現時点では実験室段階での成果であるが、生体親和性材料開発の観点からは、学会でも高く評価されている。また、基板の材料としてアルミナでは無くチタンについても実験を開始し、新しい材料の開発を進めつつある。1の透明電極は既に実用に耐えうるが、もう1桁程度抵抗値が下げるような条件を見い出せれば申し分は無い。
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