| 研究概要 |
本研究では、キラル・ジエノラート化学という新分野を開拓し、これとシグマトロピー転位の化学を合体させることにより「不斉誘導/不斉転写/不斉誘導への連続」という遠隔不斉合成の新しいアプローチを確立した。
既に前年度の本研究において、キラル補助基として(-)-サルタムを有するα,β-、もしくはβ,γ-不飽和カルボニル化合物から調製したリチウムともしくはボロンキラルジエノラートのアルキル化反応、もしくはアルドール反応が高い不斉誘導率(%de)の中程度のE/Z選択性を伴い進行することを見出している。そこで本年度は、このキラル・ジエノラートのアルキル化反応の立体選択性に関して不斉補助基、塩基等の影響を精査した。その結果、(2R,5R)-ビス(メトキシメチル)ピロジリンを不斉補助基として、LHMDSを塩基として用いることにより、ほぼ完璧な立体選択性(%de,E/Z比)でアルキル化体を得ることに成功した。得られた1,5-ジエン体のCope転位もしくはoxy-Cope転位に高い不斉転写率を伴い進行し、高度な遠隔不斉誘導に成功した。
また、本概念をさらに発展させて、キラルジエノラートのα-オキシ化、引き続きPb触媒による[3,3]転位を行うことにより、遠隔位のC-O不斉を高度に制御することにも成功した。さらに、これらの新手法の遠隔不斉合成法としての有用性を明らかにするために、1,3-synの遠隔不斉を有するザラゴジン酸AのC6側鎖を合成した。すなわち、キラルジエノラートの不斉アリル化/Cope転位生成物を1,4-還元、キラルエノラートのアルキル化を経ることにより、その高立体選択的合成に成功した。
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