| 研究課題/領域番号 |
07458089
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| 研究種目 |
一般研究(B)
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| 研究機関 | 東北大学 |
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研究代表者 |
畠山 力三 東北大学, 工学部, 助教授 (00108474)
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| 研究分担者 |
平田 孝道 東北大学, 工学部, 助手 (80260420)
石黒 静児 東北大学, 工学部, 助手 (10193301)
飯塚 哲 東北大学, 工学部, 助教授 (20151227)
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| キーワード | 局所ECR / プラズマ電位形成 / 障壁電位 |
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| 研究概要 |
長さ500cmの直線型装置の中央付近に、ミラー長100cmの局所磁気井戸または磁場勾配特性長50cmのステップ状収束型ミラー配位を実現し、購入設備備品のターボ分子ポンプによりそれらの局所変化磁場領域の真空度を著しく改善した。
1.装置の一方の端で、Qマシーン方式により完全電離無衝突プラズマ流を発生し局所不均一磁場領域へ導入するともに、装置他端からクライストロンによりマイクロ波(6GHz、10W以下)を磁力線に平行に入射し、シングルプローブ法によりプラズマ電位の空間分布を測定した。
2.その結果、井戸型ミラーの最小磁場点がECR点に一致する場合には、プラズマ流障壁電位(電子流を遮る局所的電位くぼみ及びこれに後続してイオンを補足・反射すべく電位上昇)が定常状態では観測されなかった。
3.しかし、ステップ状収束型ミラーの途中点がECR点に一致する場合には、局所ECR点が磁場曲線の良い領域に存在する場合のみ、定常的なプラズマ流障壁電位の形成が観測された。
4.一方、プラズマ流をパルス的に導入することにより電位形成の時間発展を測定した。その結果、プラズマ流が局所ECR点に到達した直後には、前者の磁場配位においてもまた後者の磁場配位における悪い磁場曲率の場合にもプラズマ流障壁電位が過渡的に形成されることが明らかになった。
5.そこで、収束型ミラーの磁場強度・分布を変え、局所ECR点を磁場曲率の良い領域から悪い領域へ徐々に移動させ、プラズマ中に発生している不安定波動の振舞いを購入備品のスペクトルアナライザーを用いて調べている。
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