研究課題/領域番号 |
07555011
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研究種目 |
基盤研究(A)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 展開研究 |
研究分野 |
応用光学・量子光工学
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研究機関 | 東京大学 |
研究代表者 |
神谷 武志 東京大学, 大学院・工学系研究所, 教授 (70010791)
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研究分担者 |
細松 春夫 (株)テラテック, 研究第1部, 部長
土屋 昌弘 東京大学, 大学院・工学系研究所, 助教授 (50183869)
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研究期間 (年度) |
1995 – 1997
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キーワード | 半導体レーザ / モードロックレーザ / フェムト秒 / 光パルス / 光通信 / 波長チューニング / 光学導膜 / 反射防止 |
研究概要 |
光による大容量情報通信の最先端は時間軸ないし波長軸に信号を多重化して詰め込むTDM(時分割多重)とWDM(波長分割多重)の組合わせであり、評価用パルス光源には(a)パルス幅1ピコ秒程度,(b)波長可変幅30〜100nmが望まれる。本研究では(1)外部鏡モードロック半導体レーザにおけるチャーブ特性と動作安定性;(2)高品質、広帯域反射防止膜の設計・製作法;(3)1.3ミクロン帯および1.5ミクロン帯のチューナブル半導体能動モード同期レーザシステムの試作と評価、を取り上げた。第1にチャープ特性の理論的な検討をおこない次のことがわかった。 (1)能動モードロックのレッドシフトチャープ特性は利得領域αパラメータで支配されている。 (2)受動モードロックのブルーシフトチャープ特性は吸収領域のαパラメータで支配されている。 (3)キャリア加熱過程はチャープ量を増大させる可能性がある。 第2に高性能の広帯域反射防止膜を形成するための新しい設計アルゴリズムを開発した。設計の指針として従来のように光学アドミッタンマッチング条件を中心波長に課するのではなく、一定波長範囲において許される反射率以内にあることを条件として課することとした。設計パラメータ空間においてバンド幅を評価関数として最適条件を探す。実際に酸素イオンビームアシスト電子ビーム蒸着装置を用いて試作した4層膜の反射率は^<>の帯域幅が約30nmとなった。 第3レーザチップに2層反射防止膜をつけ、評価した。その結果波長1322から1352nmまで約30nmの範囲にわたりパルス幅20ps以下を常時実現することができた。
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