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1995 年度 実績報告書

新しい薄膜技術(エクリプス・レーザー堆積法)の樹立と超低損失光回路作製への応用

研究課題

研究課題/領域番号 07555101
研究種目

試験研究(B)

研究機関大阪大学

研究代表者

小林 猛  大阪大学, 基礎工学部, 教授 (80153617)

研究分担者 野元 克彦  シャープエネルギー変換研究所, 係長(研究員)
山本 義弘  シャープエネルギー変換研究所, 課長(研究員)
富田 孝司  シャープエネルギー変換研究所, 部長(研究員)
藤井 龍彦  大阪大学, 基礎工学部, 助手 (40238530)
作田 健  大阪大学, 基礎工学部, 講師 (70221273)
キーワードレーザーアブレーション / エキシマ・レーザー / 光回路 / PLD / エピタキシャル成長 / 酸化物薄膜 / ヘテロ構造
研究概要

当研究代表者のグループにより創案された新しいレーザーアブレーション技術"エクリプスPLD法"の実用に向けて数々の改善や、さらなる着想の導入を図った。対象とした酸化物材料に強誘電体、超伝導体、電気光学物質を選び、各種のヘテロ接合の可能性を明らかにしてきた。
エクリプス法の特徴は、レーザープルームの軸上に小さな遮蔽板をおくことであり、この遮蔽板が飛行粒子の質量フィルターとして作用することから、問題のドロップレットを完全解決できることを特徴にしている。
本年度は計算機シミュレーションの開発により、粒子の飛行状態を机上で求め、遮蔽板のサイズや配置する位置の最適設計も併せて行った。この設計の精度について、プルームの観察結果と対比することにより大まかな結論をえた。今後の研究に十分活用できるだけの精度を持っていることが実証された訳である。

  • 研究成果

    (5件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (5件)

  • [文献書誌] 小林猛: "粒子拡散を利用する新しいレーザーアブレーション薄膜形成(エクリプス法)" レーザー研究. 23. 380-388 (1995)

  • [文献書誌] 立木実: "新しいレーザーアブレーション法(エクリプスPLD法)" O Plus E. 189. 61-66 (1995)

  • [文献書誌] Minoru Tachiki: "Heteroepitaxial Growth of SrBiTiO/BiSrCuO Structure by ArF Excimer Laser Ablation" Jpn.J.Appl.Phys.34. L1145-L1147 (1995)

  • [文献書誌] Shingo Tomohisa: "Morphological Study of Epitaxial YBCO Films Grown by Eclipse Deposition" Int.Super.Elec.Conf. 453-455 (1995)

  • [文献書誌] Minoru Tachiki: "A Novel Heterojunction of SrBiTiO/BiSrCsCuO for MIS Application" Int.Super.Elec.Conf. 246-248 (1995)

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公開日: 1997-02-26   更新日: 2016-04-21  

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