| 研究課題/領域番号 |
07555268
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 展開研究 |
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| 研究分野 |
工業物理化学
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
鯉沼 秀臣 東京工業大学, 応用セラミックス研究所, 教授 (70011187)
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| 研究分担者 |
佐藤 浩太 横浜国立大学, 工学部, 助教授 (40192091)
妹尾 武彦 プラズマシステム株式会社, 開発部, 研究員
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| 研究期間 (年度) |
1995 – 1997
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| キーワード | 大気圧低温プラズマ / プラズマプロセス / 有機高分子膜 / 表面処理 / 接着性向上 / O_2プラズマ |
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| 研究概要 |
本研究では大気圧下に低温プラズマを発生する各種の装置を開発し、空気中で実施できる新たなプラズマプロセスの応用について検討した。プラズマ診断、および放電形状の制御パラメータの検討を通して、大気開放系低温プラズマの本質を明らかにすることも目的とした。
本研究により、1mm以下のビーム状から2×50mmのシート状、直径50mmのデスク状に至る各種形状を有し、温度500℃から100℃以下にわたる放電気体を大気中に放出できるプラズマ発生器を作成し、その特性を明らかにした。
この新しい大気開放系低温プラズマの応用として、第一にセラミックス薄膜堆積、およびエッチングの可能性を明らかにした。また、真空チャンバー中では処理しにくい、ゴムや高分子フイルム等に村するプラズマ表面処理に効果的なプロセスを開発した。
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