| 研究概要 |
本中空伝送路のレーザー伝送は,平行に配置した2枚の金属反射板で構成される矩形中空部内をレーザー光が反射を繰り返して行われる.伝送率は金属反射板のレーザー光に対する反射率に依存する.波長300nmより短波長の紫外エキシマレーザーに対して,反射率の高い金属はアルミニウムのみである.反射板として市販のAl純度の高いもので,鏡面仕上げが施されている材料を精密研磨機(平成7年度申請設備備品)で研磨して用いたが,所望の反射率が得られず,研磨に限界のあることが判った.これはアルミニウムの硬度が低いためである.そこで,燐青銅薄板を研磨し,研磨面にAlを真空蒸着した反射板を試作した.この場合,Al蒸着条件(蒸着速度,膜厚,基板温度)によって紫外光反射率,Alと燐青銅との密着性が異なるので,最適な作製条件を実験によって見い出した.試作の結果,Al蒸着燐青銅薄板の反射率はAl薄板に比べて高く,伝送率を向上できた.具体的には長さ15cmの伝送路でKrFレーザーの場合,5%の伝送率向上であった.また,燐青銅はアルミニウムに比べて硬度が高く,弾性にも優れるため,中空伝送路の可撓性を向上させることができた.しかしながら,現状では長さ15cmの反射板しか製作できない問題がある.これは長さ100cmの長尺材の研磨およびAl蒸着が困難なことに原因がある.今後は厚さ0.3mm,幅10mm,長さ1200mmの燐青銅薄板の研磨方法と,Al蒸着方法を確立し,長さ100cm,伝送率90%/mの可撓性を有する中空伝送路の実現を目指す.
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