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1995 年度 実績報告書

修飾を受けたDNAの切断に関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 07672271
研究種目

一般研究(C)

研究機関九州大学

研究代表者

麻生 真理子  九州大学, 薬学部, 助手 (30201891)

キーワードDNA / 酸化的解裂 / 抗がん剤
研究概要

種々の抗ガン剤はDNAの酸化的開裂によりその活性を発現するが、酸化的修飾の一つの様式であるC4'位水酸化体より生成する修飾DNAのアミン、または金属イオンによる解裂を検討するため、モデル化合物としてC'4位にヘテロ原子、フェニンセレノ基及びメトキシ基を持つヌクレオシドの合成と反応性を検討した。4'-フェニルセレノ体の合成は、2-デオキシアデノシンより得られる3'アセチル-2'-デオキシ-N,N-ジベンゾイルアデノシンの5'位の水酸基を酸化して得られるアルデヒド体をセレノ化し、引き続きアルデヒドを還元することにより、α体,β体をそれぞれ約1対3の比率で得た。またC'4位にメトキシ基を有するヌクレオシドはチミジンより4行程で合成し、α体,β体の混合物として得た。合成したヌクレオシドのうち4'-メトキシ体については、酸加水分解によるC4'位水酸化体への変換を検討した。α体,β体の混合物を重水中オキザリルクロリドと処理を行ったが、目的とするC4'位水酸化体への変換は起こらなかった。4'-フェニルセレノ体に関しては、α体,β体をそれぞれメタノール溶液とし氷浴中過酸化水素と処理したところ、原料が消失し、アデニンが遊離することがTLCで確認された。4'-フェニルセレノ体からのアデニンの遊離は、過酸化水素によるフェニルセレノ基の酸化、オキソニウムイオンの生成を伴う脱離、C4'位水酸化体の生成、アデニンの脱離という一連の反応経路を経由していると考えられる。4'-フェニルセレノ体からアデニン脱離後のabasicな部分の構造確認は現在検討中である。

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公開日: 1997-02-26   更新日: 2016-04-21  

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