3次元ナノメートル分析技術の開発

1997 年度 実績報告書

• 研究課題/領域番号: 08044148
• 研究機関: 大阪大学
• 研究代表者: 高井 幹夫 大阪大学, 極限科学研究センター, 教授 (90142306)
• 研究分担者: LOTHAR Frey フラウンホーファ集積回路電子素子技術研究所, 部長 ; HEINER Rysse フラウンホーファ集積回路電子素子技術研究所, 所長, 教授 ; 柳沢 淳一 大阪大学, 大学院・基礎工学研究科, 講師 (60239803) ; 弓場 愛彦 大阪大学, 大学院・基礎工学研究科, 助教授 (30144447)
• キーワード: イオンマイクロプローブ / 集束イオンビーム / TOF-SIMS / ナノファブリケーション / ナノメートル3次元分析 / 電界放射電子源 / プロセス誘起欠陥 / ナノ構造

研究概要

1.日本側研究者がドイツの相手側研究所へ出張し、双方の昨年度の研究実績に関し情報交換した。ドイツ側研究所においては、相手側で昨年度研究された集束イオンビーム(FIB)クロスセクションニング、TOF-SIMS、SEM/TEM等の進捗状況、現状の問題点について検討を行い、共通試料として、FIBによる局所物理スパッタリングと反応性FIBエッチングによるものを作成した。さらに、ナノファブリケーション技術として有望な電子およびイオンビーム誘起化学プロセスを用いた電界放射電子源のための金属堆積やマスクレス加工を用いた試料の作製を行った。
2.同一構造試料の基礎測定を双方で行った。大阪大学では、ナノ構造作製時のFIBプロセス誘起欠陥および加工周辺部のビームプロセス汚染に関する非破壊分析を80nmの精度で行い、ドイツ側ではTOFSIMS等を用いた破壊検査による分析を行い、双方の結果を国際会議にて発表した。さらに、ドイツ側と共同でプロセスを行ったナノ構造の電界放射電子源に関しても国際会議で発表した。

研究成果

• [文献書誌] M.Takai: "Multi-Dimensional Micro Aralysis of Semicondacter Device Strucfures Using Ion Microproke" 放射線. 23. 15-23 (1997)
• [文献書誌] T.Kishimoto: "Control of Carrier Collection Efficiency in n^+P Diode with Retrograde Well and Epitaxial layers" Jpn.J.Appl.Phys.36. 3460-3462 (1997)
• [文献書誌] M.Takai: "Selective Metal Deposition Using Metal-Covered Scanning Tionreling Microscope Tips" J.Microelectronic Eng.35. 353-356 (1997)
• [文献書誌] T.Kishimoto: "Suppression of Ion.Induced Charge Collection Against Soft Error" Proc.of the llth Interu.Conf.on Ion Iunplantation Technology (IEEE). 9-12 (1997)
• [文献書誌] F.Paszti: "Detectors for Microprobe Applicatione at Medium Ion Energy" Nucl.Iustr.and Meth.B130. 247-252 (1997)
• [文献書誌] M.Takai: "Recent Application of Nucl.Microproke Techuigesy to Microectionicy" Nucl,Instr.and nethe.B130. 466-469 (1997)
• [文献書誌] T.Kishimoto: "Suppression of Carrier Collection Efficiency in Diode with Retrogrodo Well and Epitoyers" Nucl,Iustr.and Meth.B130. 524-527 (1997)
• [文献書誌] Y.K.Park: "Microanalysis of Submicron Patterned WSix Structure using Nicleor Microproke" Nacl,Iustr.and meth.B130. 534-538 (1997)
• [文献書誌] Y.K.Park.: "Ir and Rh Silicide Formation Investigated by Microproke RBS" Nucl.Instr.and Meth.B130. 728-733 (1997)
• [文献書誌] Y.K.Park: "Microanalysis of Impurity Con tomingtion in Maskiossly Etched Avea using FIB" Jpn.J.Appl.Pluys.36. 7712-7716 (1997)
• [文献書誌] M.Takai: "Surface,Sfrueture,of Hydvogen terminated (100) S : by Medium Energy Ion Scateroy" Nucl.Iustr.and Meth.B(in press). (1998)
• [文献書誌] Y.K.Park: "Microanalysis of Maskessly Fobricated Microstructuves using Nuclear Microproke" Nucl.Instr.and Meth.B(in press). (1998)
• [文献書誌] M.Takai: "Fabrication of FEA using Focuged Ion and Electron Beam Indueed Reaction" J.Microelectronic Evy.(in press). (1998)
• [文献書誌] M.Takai: "Proc.of,Atomic Loyer Charaetesizetion 97" Microavaly sis Usivy Ion Microprokes, 6 (1998)
• [文献書誌] M.Takai: "Proc of the 7th Rodiative Ray Process Symp." Recent Research Activites of Ion Microproke in the World, 4 (1997)