| 研究概要 |
これまでに,O_2のLIPEによる高エンタルピ空気流の計測システムを構築した.O_2の励起には広帯域のエキシマレーザー(ArF:193nm),蛍光の検出には分光器およびマルチチャンネル測光システムを用い,広帯域の蛍光スペクトルの一括計測を可能にした.一般にLIFを利用して温度を計測するには,蛍光強度が温度と密度に依存するため,密度の影響を取り除くか別の方法で密度を計測する必要がある.これまでに報告されている広帯域レーザーを利用したO_2のLIPFのよる温度計測では,密度の影響を除去するために,圧力一定の流れ場に限定したり,Rayleigh散乱と組み合わせて温度が計測されているが,いずれも蛍光スペクトルに基づいていないために計測精度は十分ではない.本研究では,上記のシステムを利用して,蛍光スペクトルの2つの波長域の積分強度比から温度が計測できることを理論的に明らかにし,実験によりその妥当性を検証した.実験では,1200Kまで温度調節可能な電気炉を製作し,熱電対で計測し温度との比較から温度計測精度も評価した.現在,蛍光スペクトルの2つの波長域の積分強度を2つのフィルタにより分離して冷却型超高感度CCDカメラにより計測することで,この温度計測法の2次元計測への拡張を行っている.また,開発したシステムによる密度計測の可能性も調査中である.
高エンタルピ空気流発生装置については,これまでに電気ト-チを組み込んだ噴流発生装置を製作した.温度は1000Kまで調整可能である.現在上記の温度計測システムを利用して,噴流の温度計測実験が進行中である.また,高エンタルピ超音速空気流を発生させるために,この電気ト-チを組み込んだ噴流発生装置を真空チャンバーに設置する予定で,現在までに真空チャンバーを製作した.
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