(1)リソグラフィー電極を用いたマイクロスケールプラズマの発生 半導体リソグラフィー技術により、作製したミクロンオーダーのギャップ電極を用いプラズマの発生に成功した。プラズマ生成におけるパッションのルールのマイクロスケールの世界での成立を確認するなどマイクロスケールでのプラズマ発生法の大きな手法となることが期待される。 (2)プラズマ環境STMの開発 プラズマの極小領域(ナノワールド)物性以下のような新たな要素技術の開発を行ない、その集積としてのプラズマ環境STMのを完成させた。 (A)プラズマ環境STM用プローブ(ガラス被覆/先端数μm露出/Pt-Ir製)の開発 (B)プラズマ環境STM用耐高電圧(1kV)高精度(10fA)電流計の開発 (C)プラズマ環境STM用チャンバー(2重防振構造)の作製 (D)プラズマ環境STM用コンパクト高周波(440MHZ)プラズマ発生装置の作製 上記装置を用い、STMの標準試料であるHOPG高配向性グラファイトのプラズマ照射下でのSTM観察を行ない、ナノステップ像および格子像観察に成功を収めた。プラズマ環境下での固体表面のナノ構造STM観察に成功した本研究は、ナノスケールでの固体-プラズマ界面研究の新たな扉を切り開くものである。
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