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1997 年度 実績報告書

化合物半導体の状態図と熱力学データベース構築

研究課題

研究課題/領域番号 09044124
研究機関東北大学

研究代表者

石田 清仁  東北大学, 大学院・工学研究科, 教授 (20151368)

研究分担者 HILLERT Mats  スウェーデン王立工科大学, 名誉教授
ANSARA Ibrah  仏国ドメイン大学, 科学熱力学研究所, 所長
大沼 郁雄  東北大学, 大学院・工学研究科, 助手 (20250714)
大谷 博司  東北大学, 学際科学研究センター, 助教授 (70176923)
貝沼 亮介  東北大学, 大学院・工学研究科, 助教授 (20202004)
キーワードIII-V化合物半導体 / 状態図 / 熱力学データベース / オプトエレクトロニクス / 液相成長法 / 気相成長法 / 相平衡 / CALPHAD
研究概要

次世代のオプトエレクトロニクス材料として注目されている,周期律上のIII族元素(Al,Ga,In)とV族元素(P,As,Sb)を組み合わせた化合物半導体の状態図に関して,既存のデータの収録および実験による相境界の決定を行った.実験は,In-P-Sb系のInP-InSb擬2元系状態図とこれまで報告が皆無のIn-P-Sb3元系の全組成範囲についてのDSCによる熱分析を行い液相面を決定した.また,In-Ga-As3元系については,従来の熱力学的解析によりInP+GaPの2相分離の存在が示唆されていたが,2相分離領域の試料の分析結果が均一相であったことから,2相分離が存在しないことが明らかになった.
得られた熱力学データに基づいて,In-P-Sb, Ga-P-Sb, Al-In-Sbの各3元系に関する熱力学的解析を行い,データベースを作成した.InP-InSb化合物相の固溶範囲が狭く,また,これまで共晶反応と考えられていた530℃近傍の不変系反応が包晶反応であることが明らかになった.Al-In-Sb系は,InSb-AlSb化合物間で全率固溶を示すが,180Kを臨界点とする2相分離が存在することが分かった.Ga-P-Sb系についても,これまで報告されている実験値に矛盾のない解析結果が得られた.また,いずれの3元系についても,液相面および液相/固相の平衡組成が計算可能となったことから,液相エピタキシャル成長のための有用な指針が得られた.
上記3元系以外にも,国外の研究期間が分担したGa-In-Sb, Ga-In-As, In-As-Sb, Ga-As-Sb, Ga-In-Sb等の3元系についても熱力学的解析が終了し,III-V化合物半導体の熱力学データベースがほぼ完備した.

  • 研究成果

    (2件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (2件)

  • [文献書誌] H. Ohtani: "Application of the CALPHAD method to material design" Thermo chimica Acta. 3598. 207-216 (1997)

  • [文献書誌] H. Ohtani: "Computational Materials Design" Springer-Verlag(発表予定), (1998)

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公開日: 1999-03-15   更新日: 2016-04-21  

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