| 研究概要 |
【1】ゲル調製条件の探索
ヘテロ高分子ゲルに構造を刷り込むため,疎水相互作用・静電的相互作用・水素結合の相互作用を有するモノマー種を選択し,その調製条件を決定した.低温かつ比較的高濃度のゲルに構造が刷り込まれていることを示唆する結果が得られた.このような条件下で効率良くゲルを調製するため,新しい光重合システムを開発した.また,この研究の過程において粒子径のそろった感熱性ゲルラテックスが調製できることも明かとなった.
【2】レーザー走査共焦点顕微鏡システムの構築
上の研究と並行してレーザー走査共焦点顕微鏡システムを構築した.装置はカ-ルツアイス社製倒立顕微鏡と横河電機製共焦点スキャナーユニットからなる.このシステムにおいては,レーザー光源としてアルゴンイオンレーザーを用いる.従って,効率良い測定を行うためには,ゲルを適当な蛍光試薬でラベルする必要がある.この点については,フルオレセインイソチオシアナ-トを用いることによって解決できることが明かとなった.
【3】比較的大きなスケールに亘る構造の観察
ゲルが収縮する際,ゲルに美しいパターンが形成されることがわかった.パターンを形成したゲル中における高分子網目の密度分布を明らかにするため,レーザー走査共焦点顕微鏡観察を行った.パターンが形成されているゲルでは,網目密度が局在化していることが明かとなった.また,パターンの形成過程において,高分子網目密度が時間と共に変化してゆく様子が観察できた.以後,この過程のダイナミクスを研究する予定である.
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