半導体モノシリック光集積回路のための面積選択有機金属気相エピタキシ

1998 年度 実績報告書

• 研究課題/領域番号: 09450007
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 中野 義昭 東京大学, 工学系研究科, 助教授 (50183885)
• 研究分担者: 霜垣 幸浩 東京大学, 工学系研究科, 助教授 (60192613)
• キーワード: MOVPE / MOCVD / 選択成長 / MOVE / 分光エリプソメトリ / 成長シミュレーション / MMIカプラ / 光アンプゲートスイッチ

研究概要

1.分光エリプソメトリによるMOVPEのその場観察 ー界面急峻性の向上:前年度に開発した,分光エリプソメトリを用いた有機金属気相エピタキシ(MOVPE)のその場観察技術を応用して,1〜3分子層の厚さを有するInGaAs/InP量子井戸を作製し,それをCTR法によって評価したところ,従来のどの報告例より優れた信号が得られ,界面は実際に単分子層オーダの急峻性を有することが示された.2.流れ方向成長速度/膜質分布の解析とそれを応用した成長条件の最適化:InPおよびGaAsの原料ガス流れ方向の成長速度分布,膜質分布を,特別に作製したサセプタを用いて実験的に調べ,その結果と前年度に開発された成長シミュレータによる結果とを比較考察した.これを基に,高温時に発生する表面荒れのメカニズムを特定し,表面荒れを回避する成長条件を論理的に決定することに成功した.3.有機金属気相拡散選択エピタキシーによる多モード干渉カプラの試作:前年度に開発した有機金属気相拡散選択エピタキシー(metal-organic vapor phase diffusion enhanced selective area epitaxy,MOVE)は,導波路アレイを作製することのできる世界で唯一の選択成長技術である.この特徴を利用して,1×2多モード干渉(multiple mode interference,MMI)合/分波器を,選択成長によって世界で初めて試作,実現した.4.有機金属気相拡散選択エピタキシー技術を用いた光アンプゲートスイッチ集積回路の試作:さらに上記MOVEによる能動/受動集積を適用して,光交換で必要とされる光アンプゲートスイッチ集積回路を世界で初めて試作し,その動作を確認した.

研究成果

• [文献書誌] Martin Bouda: "First multi-mode interference devices fabricated by metal-organic vapor phase diffusion enhanced selective area epitaxy" Conf.proc.,10th Itfernational Conf. on Indium phosphide and Related Materials (IPRM'98). WA1-5. 329-332 (1998)
• [文献書誌] Tomoaki Toda: "Fabrication of InGaAs/GaAs DFB guantum Wire lasers by using v-grooved substrates" Conf.proc.,10th International Gonf.on Indium phosphide and Related Materials (IPRN'98). WB1-5. 349-352 (1998)
• [文献書誌] Yoshiaki Nakano: "In-situ characterization and modeling of MOVPE for optoelectronic devices" Conf.proc.,10th Inlernational Conf.on Indium phosphide and Related Materials (IPRM'98). WA1-1. 313-316 (1998)
• [文献書誌] Shinya Sudo: "Improvement of hetero-inferface abruplness in MOVPE growth of InGaAs/InP guantum wells by in-situ kinetic ellipsometry" Conf.proc., 10th International Conf. on Indium phosphide and Related Materials (IPRM'98). ThA1-4. 485-488 (1998)
• [文献書誌] Yoshiyuki Mishima: "Simulation of the growth enhancementin selective area HOVPE" Exlended Abstracts of the 17th Electronic Materials. SA2. 153-156 (1998)
• [文献書誌] Martin Bouda: "First realization of multi-mode interference sevices by the MOVE2 selective area,growth process" Tech. Digest,Third Optoeletronics and Commnnications Conf.(OECC'98). 15B1-3. 338-339 (1998)
• [文献書誌] Yoshiyuki Mishima: "Two-dimensional simulation of the growth enhancement in selective area metal-organic vapor prase epitaxy" Meeting Abstract,194th Electrochemical Society Annual Meeting. 98-2. 839 (1998)
• [文献書誌] 戸田知朗: "マストランスポートによるInAsp量子細線の作線と光学特性評価" 電子情報通信学会技術研究報告(レーザ量子エレクトロニクス). LQE98-107. 55-60 (1998)
• [文献書誌] Yoshiaki Nakano: "Wavelength frimming technology for multiwavelength DFB laser arrays in dense WDM applications" Conf.proc., IEEE Lasers and Electro-Optics Society Annual Meeting (LEOS′98). 2・FS1. 422-423 (1998)
• [文献書誌] Martin Bouda: "Development of metal-organic rapor phase diffusion enhanced sekctive area epitaxy, a novel MOVPE selecfive area, growth technique, and its application to mu1t-mode interference device fabrication" Japanese Journal of Applied Physics. (採録決定済み). (1999)
• [文献書誌] Yoshiyuki Mishima: "Two-dimensional simulation of the growth enhancement in selective area metal-organic vapor phase epitaxy" Proc.of Materials Research Society Annual Meeting.
• [文献書誌] (採録決定済み). (1999)
• [文献書誌] Tomoaki Toda: "Room temperature operation of 1.55μm InAsP/InP strained quantum wire DFB lasers fabricated by mass-fransport method" International Conf.on Indium Phoshide and Related Materials (IPRH). (採録決定済み). (1999)
• [文献書誌] Weerachi Asawamethapant: "Congifudinal distribution analysis of InP growth in a horizontal MOVPE reactor for improved film guality" International Conf.on Indium phasekide and Related Maferials (IPRM). (再録決定済み). (1999)
• [文献書誌] Yoshiaki Nakano: "In-situ characterizarion and inocleling of MOVPE for InP-based photonic devices" International Materials Research Society Meeting. (再録決定済み). (1999)