| 研究課題/領域番号 |
09555048
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(B)
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 応募区分 | 展開研究 |
|---|
| 研究分野 |
機械工作・生産工学
|
|---|
| 研究機関 | 東京都立大学 |
|---|
研究代表者 |
原田 達男 東京都立大学, 大学院・工学研究科, 教授 (70244415)
|
|---|
| 研究分担者 |
芝井 広 名古屋大学, 大学院・理学研究科, 教授 (70154234)
角田 陽 東京都立大学, 大学院・工学研究科, 助手 (60224359)
佐久間 秀夫 東京都立大学, 大学院・工学研究科, 助手 (20128573)
古川 勇二 東京都立大学, 大学院・工学研究科, 教授 (10087190)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
1997 – 1998
|
| キーワード | グリズム / 赤外線分光 / 回析格子 / プリズム / シリコン単結晶 / ルーリングエンジン / 異方性エッチング |
|---|
| 研究概要 |
赤外分光観測用途を主対象とした高性能グリズム製作法として、機械・化学複合加工法を提案し、グリズム設計法及び製作法に関する基礎的研究を行った。
本研究で提案したグリズム製作法は、あらかじめ特定結晶面((111)面)を溝角相当量傾斜させて切断・研磨したシリコン単結晶グリズム基板を使用し、回折格子製作用専用工作機械であるルーリングエンジンを使用して基板上に機械的に回折格子パターンを形成し、シリコン単結晶の異方性エッチングにより、鋸歯状格子溝を形成するものである。
本研究では先ず、グリズム上に形成する回折格子製作プロセスとして、ルーリングエンジンによる回折格子マスク形成プロセス、異方性エッチング用SiO_2マスク形成プロセス、及びシリコン単結晶の異方性エッチングプロセスに関する実験的検討を行い、赤外用グリズム製作のための機械・化学複合加工標準プロセスを確立した。
この標準プロセスに従って、波長6μmの赤外線を中心波長とするグリズムの設計を行い、頂角及び溝角7°、格子溝間隔20μmのグリズムを試作した。
試作した赤外用グリズム上に形成された回折格子は、溝角の正確さ、溝面の平坦度及び面粗さにおいて従来の機械加工による赤外用回折格子を上回る形状精度を示し、本研究で提案した機械・化学複合加工によるグリズム製作法の有効性が実証された。
|
