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本年度、ポリ(メチルフェニルシラン)とポリ(ジ-n-ヘキシルシラン)をナトリウム縮合法で合成した.
1.高純度試料の調製法を探索するため、副次生成物としてポリ(メチルフェニルシラン)中に含まれる塩化ナトリウム(NaCl)を純水洗浄で除去することを試みた.中性子放射化分析法による定量測定では、ナトリウムNaは最初の3回洗浄で大部分除去されており、15回洗浄を行っても3回洗浄後に残っている量の約二分の一が除去されるにすぎないことが明らかとなった.15回洗浄後のNa残存量はモノマーセグメントあたり5.5×10^<-5>個であった.ポリ(ジ-n-ヘキシルシラン)では3回洗浄後のNa残存量は2.3×10^<-4>個であった.
2.上記合成ポリシラン中に存在する不純物塩素ClはNaに比べて桁違いに大量であり、3回洗浄後は減少傾向をほとんど示さないことが判明した.1.の結果を考慮すると、残存Clは副次生成物のNaClの一成分として残る量よりも、合成されたポリマーの末端基として残る量の方が圧倒的に多いことを示している.これより末端基定量によるポリ(メチルフェニルシラン)の数平均分子量を見積もることができ、5.4×10^<-4>と求まった.
3.本研究課題では核的手法を用いるため試料が高エネルギー放射線の被曝を受けることは避けられず、その効果を予め知っておくことは重要である.そのため最も物性量に敏感な分子量および分散比の照射依存性をポリ(メチルフェニルシラン)についてGPCにより調べた.その結果、重量平均分子量は照射線量を増加してもほぼ一定に保たれるのに対し、分散比は線量増加とともに単調に増加した.この結果は、ポリシランにおいてはγ線による架橋の割合が分解の割合に比べてはるかに小さい分解主導型の反応が進み、分解種は比較的低分子量のものであることを示している.これより、照射中に分解ガスの発生がみられるものと予想される.
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