| 研究課題/領域番号 |
09650067
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 研究機関 | 東海大学 |
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研究代表者 |
若木 守明 東海大学, 工学部, 教授 (20100993)
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| 研究分担者 |
村上 佳久 筑波技術短期大学, 視覚部, 助手 (30229976)
小川 力 (財)応用光学研究所, 研究員 (80015750)
渋谷 猛久 東海大学, 工学部, 講師 (90235599)
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| キーワード | フォトド-ピング / 偏光解析 / 電子線ド-ピング / プラズモン共鳴 / 光導波路 / カルコゲナイドガラス / As_2S_3 |
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| 研究概要 |
フォトド-ピング現象の光導波路への応用を意図し、ノンドープ層と金属ドープ層の物性ならびに拡散過程における金属の拡散プロフィールの把握を目的に、平成9年度には、Ag/As_2S_3の2重層について、「偏光解析測定」「電子線ドープ観測」「プラズモン共鳴測定」を行い、それらデーターの解析を行った。偏光解析測定では偏光解析パラメーター(【.upper filled triangle.】,Ψ)に特徴的時間推移が観測され、それらのシミュレーション解析によって、膜厚と光学定数に既にわれわれが報告したと同様の振る舞いを確認した。走査電子線顕微鏡を用いて行った電子線によるド-ピングでも光によるド-ピングと同じような拡散過程が認められ、微細構造の加工への期待を持たせた。プラズモン共鳴測定では共鳴線の敏感な時間推移が解析を複雑にして、クラスター層を含む4層モデルでのフィッティングにまでは現在至っていない。しかし、この手法のフォトド-ピング現象解明への有効性を明らかにできた。
偏光解析に関連して、分光エリプソメトリーの測定を行うと共に、As_2S_3膜の熱ならびに光による処理履歴による違いを単色エリプソメトリーによって精密に調べた。分光エリプソ測定結果の解析を待って電場効果の測定に入るべく試料の作製を終えたところである。履歴の問題については、熱処理または光処理の前後で屈折率のドリフトの様子が異なることが確かめられた。
光導波路の試作ならびに評価に関しては、カルコゲナイドガラス膜のドープ前の膜の赤外域での導波特性を調べた。As_2S_3薄膜は一般に光構造変化を起こし易いが、その効果が赤外領域では軽減されることが確かめられ、今後に期待がもてる結果が得られた。
これらの結果はいずれも1997年10月の米国光学会年会において発表した。
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