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二次元的にひろがった種々の側鎖基(アルキル基)をもつ溶媒可溶性のシリコンネットワークポリマーを合成し、電子線レジスト材料としての感受性について検討を行った。光分解の場合は、励起状態を経るが、イオンラジカルを経る放射線分解反応においては小員環ラジカルイオンの生成が予測され、一次元のポリシランとは異なった分解挙動が期待される。平成9年度では側鎖にn-プロピル基、n-ブチル基、n-ヘキシル基を有するネットワークポリシランの合成を行った。平成10年度では、得られたネットワークポリシランについて放射線感受性を検討した。電子線レジスト材料としての性能の検討を行うために必要となる基礎的データであるラジカルイオン種について注目し、放射線感受性を検討した。(このラジカルイオン種の測定の際、平成9年度で購入した分光光度計を用いて行った。)イオンラジカルを経る放射線分解反応においては小員環ラジカルイオンの生成が予測されていたので、吸収スペクトル、ESRの測定を行ったところ、ネットワークポリシラン中には、5員環、6員環が存在していることが明らかとなった。また、ネットワークポリシランのラジカルイオンの吸収スペクトルは紫外、可視、近赤外までと幅広く、いくつかの環状ポリシランの存在が示唆された。
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