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1997 年度 実績報告書

アブフラクションによるクサビ状欠損形成のメカニズム解明と修復法の検討

研究課題

研究課題/領域番号 09671971
研究種目

基盤研究(C)

研究機関神奈川歯科大学

研究代表者

花岡 孝治  神奈川歯科大学, 歯学部, 講師 (40198776)

研究分担者 三橋 晃  神奈川歯科大学, 歯学部, 助手 (20239289)
三ツ井 邦晴  神奈川歯科大学, 歯学部, 助手 (30267512)
キーワードアブフラクション / クサビ状欠損 / グラスアイオノマーセメント / 破壊靱性
研究概要

実験I 機械的な応力による人工的クサビ状欠損の形成
ヒト抜去上顎第一小臼歯を用いて,歯頸部に引張り応力が生じると考えられる条件すなわち,歯軸に対して45度の角度で頬側咬頭に,応力比10.0Kgf/2.5Kgfの繰り返し圧縮応力を周波数4Hzの正弦波で6x10^7回まで付与し,歯頸部に生じる形態学的変化をレプリカ法を用いて観察した.その結果,E-C境では,約4x10^7回でセメント質最表層に網目状の亀裂の発生が認められ,疲労回数の増加に従い網状亀裂の増加および微細化が認められた.一方,E-D境では,疲労回数の増加に伴い平滑な根面ではsmear層の脱落,象牙細管の開口が観察されると共に,E-D境直下の象牙質に引張り応力により生じた剥離状のへき開型亀裂が観察された.しかしながら,両条件下でエナメル質には著名な変化は認められなかった.以上の結果から,クサビ状欠損の形成,拡大の一つに引張応力が関与し,メカニズムの一つの可能性として,歯頸部象牙質に生じた亀裂が穿下性に進行し,その上部エナメル質を,遊離エナメル質の如く破壊し,欠損の形成,拡大を生じさせることが示唆された.
実験II くさび状欠損歯に対する修復法の検討
これらの欠損に対する修復法として従来型GIセメントが用いられているが,辺縁不適合,chippingが認められている.より高い破壊抵抗性ならびに弾性率を持った優れた臨床成績が期待される光硬化型GIセメントに着目して,液,粉末の成分ならびに表面処理を統一し,粒径のみを変化(mode径:5.1um,4.1um,2.3um,1.5um)させた試作GIセメントの破壊靱性(K_<1c>)を測定した結果,0.98,0.94,0.83,0.76MPa^<1/2>の値が示され,破壊抵抗性を変化させることなく2.3um(mode径)まで微細化が図れる可能性が示された.
現在,欠損歯の形態観察とブラキシズム等の口腔諸環境の関連性を検討している.

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公開日: 1999-03-15   更新日: 2016-04-21  

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