| 研究概要 |
我々は純金を超高圧高分解能電子顕微鏡内で低温で電子線照射をすることによって、ナノサイズの異方性あるパターンの作成に成功している(Phil.Mag.Lett,74(1996).167)。注目すべきことに、このパターン形成は、均一な電子線スポットの内部に現れる。このことは、このパターン形成が長時間のランダムな衝突過程環境で自己組織化によって現れることを示している。ランダムな衝突過程の中での異方性を引き起こす原因が何によるかを明らかにすることは、この現象を利用してナノサイズの構造を作り出すうえで重要な課題である。この報告で我々は金の(001)面をもつ試料に対して電子線の試料表面に対する入射方位を変えるとそのパターンが変化することを見出している。この結果は、このパターン形成が表面と電子線の入射方位の関数であることを示している。そのためにナノサイズのパターンの結晶表面方位に対する依存性を調べることが次の興味ある課題である。このことを調べるために今回、金の(011)表面をもつ試料を[001]と[011]方位で照射したところ、(001)表面をもつ金の試料とは異なるパターンが現れることを見出した。この結果は電子線照射下での自己組織化のパターン形成が試料表面方位に依存することを示している。
現在、同じfcc金属である銀および銅に関して同様な実験を行っており、金の結果と比較している。また、表面のナノホールの密度の温度依存性から表面拡散に関する情報を引き出す予定である。
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