| 研究概要 |
光合成は生物の営む唯一の太陽エネルギー獲得二酸化炭素固定反応である.高等植物において,光合成に関与する遺伝子は,光と組織特異性によりその発現が厳密に制御されている.そこで,高等植物のモデル系として最適なシロイヌナズナを材料として,光合成遺伝子の発現制御機構に異常をきたした変異体を系統的に単離し,その原因遺伝子をクローニングすること,あるいは,変異植物間で二重変異体を作成し,解析を行うことによって,光合成遺伝子の発現制御機構を,明らかにすることを目的とする.これまでに,光合成遺伝子の発現を容易に検出するために,光合成遺伝子のプロモーター領域とレポーター遺伝子とのキメラ遺伝子を,遺伝学的解析に有利な,シロイヌナズナに導入した.その形質転換植物をメタンスルホン酸エチルで変異処理し,通常光合成遺伝子が発現していない組織である根とカルスで,光合成遺伝子が発現するようになった変異体を選抜した.
今年度は,既に得られていた根において光合成遺伝子が発現するようになった変異体に関してはマッピングをおこない,第4染色体上のCOP9近辺に位置することが明らかとなった.また,新たにカルスにおいて光合成遺伝子が発現するようになった変異体候補を選抜することにも成功した.
さらに,これまでに得られたタイプとは異なり,かつ変異原因遺伝子のクローニングが容易な変異体を単離する目的で,トウモロコシのAc/Dsトランスポゾン系を利用した,activationタギング法のためのベクターを作成した.今後,既にレポーター遺伝子を導入したシロイヌナズナに再導入する計画である.
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