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1999 年度 実績報告書

マイクロマシニングによる超微細構造光学素子の開発

研究課題

研究課題/領域番号 10305020
研究機関東北大学

研究代表者

羽根 一博  東北大学, 大学院・工学研究科, 教授 (50164893)

研究分担者 佐々木 実  東北大学, 大学院・工学研究科, 助手 (70282100)
南 和幸  山口大学, 工学部, 助教授 (00229759)
江刺 正喜  東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 教授 (20108468)
キーワードマイクロマシニング / 微細格子 / 無反射 / エッチング / 電子線描画 / シリコン / 光学素子
研究概要

電子線描画装置の改良を実施した。スピンドルの回転制御を行うための信号伝達方法、描画装置ステージの圧電駆動方法の改良を行った。これにより各部の独立した駆動を実現できることが確認された。今後これらを組み合わせた制御を行う。高アスペクト比の微細樽造を製作するために、エッチング用マスクを改善した。アルミの陽極酸化により生成できる100nmオーダ周期の六角形稠密構造をマスクに利用することを試みた。アルミの陽極酸化を行った表面に生じた酸化アルミを一旦除去し、その後にできるアルミ表面の周期構造を種にして、再度、陽極酸化する方法により大きな面積で配列のそろった六角形稠密構造のマスクを実現できた。製作したマスクを用いて、シリコン表面を高速原原子線によりエッチングし、これまでに製作した超微細構造のアスペクト比を超える表面構造を製作できた。また、ガラス表面に対して同様の超微細周期格子の製作を試みた。レジストをマスクに用い、高速原子線でエッチングする方法によりこれまでにない微細周期(200nm)で高アスペクト比の微細構造表面を実現した。さらに、プラスチック材料に押し付けることで微細構造の転写を実現し、型加工により大面積化が実現できることを示したことは実用上重要である。製作した微細構造表面の反射・透過特性、偏光特性を定量的に測定した。可視域の特定波長においてシリコン表面の反射率を1/100に低減できた。またガラス表面に対しては、1%以下の反射率に抑えることに成功した。また、アクチュエ-タ関係においては形状記憶合金アクチュエ-タを用いて2次元の精密駆動を簡易な構造で実現できた。

  • 研究成果

    (2件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (2件)

  • [文献書誌] Y.Kanamori,M.Sasaki and K.Hane: "Broadband antireflection gratings fabricated upon silicon substrates"Optics Letters. 24・20. 1422-1424 (1999)

  • [文献書誌] M.Sasaki,W.Kamada,K.Hane: "Two dimensional control of shape memory alloy actuators for aligning a Si micromachined pinhole for spatial filter"Japanese Journal of Applied Physics. 38・12B. 7190-7193 (1999)

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公開日: 2001-10-23   更新日: 2016-04-21  

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