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本研究の目的は、ペロブスカイトMn酸化物を高温超伝導体接合の障壁層(バリア)にするとき、厚いバリア厚さでも超伝導電流が流れるか否かを確認することが、第1の目的である。この目的にとり、高温超伝導体薄膜生成の再現性の悪さ、エキシマレーザ成膜に特有なパーティクルの付着による不均一性の発生が大きな問題であった。今回、学内経費により大幅な成膜装置の改造ができ、それにより成膜条件の確認を行った。装置の基盤ヒータの性質上、酸素圧力をこれまで低めにすることが必要となり、オゾンと酸素の混合ガス(全篤100mTorr)で、良好な高温超伝導体薄膜を作成が可能となった。
これまでより、パワー密度を下げた場合に、大きなパーティクル発生が抑えられる傾向が見い出されたが、本研究の目的には不十分であることが判ってきたので、本研究費で、エキシマレーザ光のビーム形状を均一化する光学系を購入し、実験を始めているところである。
素子加工には、ダメージの少ないイオンビーム装置として、本研究費でアトムビーム発生装置を購入した。このための基盤ホールダーを設計、自作した。微細素子製作において、レジストプロセスの改善を行っているところである。目下のところ作成した素子においては、まだ良いものがなく、積層膜制作条件、特に、アニールプロセスの改善を計っているところである。
平成11年度は、上述の課題解決を計るとともに、ペロブスカイトMn酸化物として、新しい組成のものについても調べる予定である。
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