| 研究概要 |
研究の目的は,電子・光励起によって起こる希ガス固体からの脱離を観察し,励起子が関わる脱離機構を明らかにするとともに,希ガス固体内部・表面に生成した電子的励起の緩和とエネルギー散逸の動的過程を解明することである.本年度は,Ne固体およびAr固体を対象として以下の成果を得た.
・光励起による全脱離絶対収率の測定:分子科学研究所極端紫外光実験施設を利用して,全脱離収率の励起波長依存性と膜厚依存性の詳細を調べた.充分厚い希ガス層では,バルク励起子の生成エネルギーに対応する光を照射すると,Neではほぼ1Ne原子/photon,Arでは0.2Ar原子/photonの効率で脱離が起こることを明らかにした.
・電子励起による全脱離絶対収率の測定:電子を励起源とした実験を学習院大学で行い,その収率の絶対値,膜厚依存性なとについて,光励起との相違を明らかにした.
・脱離機構と励起子の緩和過程に関する考察:これまでに行った準安定粒子の絶対脱離収率,励起二量体の脱離と発光などの実験結果と合わせて,固体内部および表面における励起子の緩和の経路とその分岐比などの考察を進めている.
次年度の研究に向けた準備の進捗状況は以下の通りである.
・パルスチューブ冷凍機を用いた新しいクライオスタットを製作した.
・レーザプラズマ真空紫外光源の調整:プラズマ発生源となる標的金属の駆動機構を製作した.
・極高真空実験装置の製作:本年度購入したターボ分子ポンプを排気系として極高真空実験装置を製作し,立ち上げた.同時に極高真空計測用のエネルギーフィルター型電離真空計を製作して取り付けた.現在の到達圧力は10^<-10>Pa台であり,さらなる極高真空の達成を目指すとともに,本装置を用いた脱離実験の準備を進めている.
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