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有機金属気相成長装置の成長室内で基板の温度を室温から800℃程度にかえて、ソースを供給し生成ガスを、60Torrのもとで、四重極質量分析計にサンプリングを行い質量スペクトルの測定を行った。その結果、モノメチルヒドラジンだけを供給したときに、モノメチルヒドラジンの熱分解によってアセトニトリル、ジメチルアミン、モノメチルヒドラゾンが生成しており、これらの生成物は650℃程度の高温で分解することが、初めて、観測された。これらの生成物はトリメチルガリウムとモノメチルヒドラジンやトリメチルインジウムとモノメチルヒドラジンの混合ソースを供給したときにも観測された。しかし、モノメチルヒドラジンだけの時に比べて混合ガスでは、実効的な分解開始温度や生成温度に若干の違いが見られた。これらは、ソースの供給速度や成長室内のソースのノズルと基板の配置に依存していると思われる。
次に、新窒素ソースのモノメチルヒドラジンとIII族アルキル金属のトリメチルガリウムとトリメチルインジウムの混合ガスをソースとして、ソースの供給量や基板温度などの成長条件をかえて低圧有機金属化学気相成長法で、アモルファスGaN上にIn_xGa_<1-x>Nの成長を行い、成長条件が組成xに及ぼす影響を調べた。基板温度650から750℃で成長し、成長層をX線回折法で調べた結果、トリメチルインジウムの供給量を増加していくと単体Inのスペクトルが認められ、そのスペクトルが認められない成長条件では基板温度を高くしていくと成長層の組成xが減少すること、および、ソースのトリメチルガリウムの供給量を増加していくと組成xが増加していくことが明らかとなった。
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