| 研究概要 |
昨年度のまでの研究で,非晶質Fe-Cu-Nb-Si-B薄帯を過時効することにより得られるコアは,エアギャップなしで,300程度の透磁率,Mn-Znフェライトコアあるいはエアギャップ付きのアモルファスカットコアと同程度の磁気損失,フェライトコアの3倍程度の飽和磁化を有すことが明らかとなった.また,ギャップ付きMn-Znフェライトコアに勝る透磁率の直流重畳特性を有するコアを作成することにも成功した.
本年度の研究においては,まず,直流重畳時の磁気損失を詳細に検討した.その結果,直流重畳時には磁気損失が増加することが明らかとなった.そこでこの点を改善するために,組成を変えたコアを作成して直流重畳特性を研究した.その結果,磁化回転型の磁化過程を有するコアにおいては,直流重畳時でも磁気損失が増加しないが,磁壁移動型の磁化過程を有するコアにおいては,直流重畳時に磁気損失が急激に増加することが明らかになった.
この結果を踏まえ,磁化回転型の磁化過程を有する低透磁率Fe-Cu-Nb-Si-B薄帯を作成し,これを用いて低透磁率・低損失コアを作成した.この結果,直流重畳時も磁気損失の増加しない低透磁率・低損失コアを作成することができた.このコアは,フェライトコアの約3倍の飽和磁化,ギャップ付きMn-Znフェライトコアに勝る透磁率の直流重畳特性,フェライトコアの2/3程度の磁気損失(100kHz,0.1T,直流重畳時)を有していた.
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