| 研究概要 |
本研究は従来の干渉計では計測することが困難であった粗面物体である加工物やマイクロマシンなどの表面形状の評価のため,非接触でかつ高速にナノメートルオーダの高精度3次元形状計測法を確立することである.斜入射干渉計は測定物体を斜めから照射することによって粗面であってもシーン現象により正反射を高めることができるため,干渉稿を得ることができる.さらに,一般の干渉稿では1稿が波長の半分に相当するが,この場合,斜入射のため感度は低減させることが可能となる.
今回,まず,基礎実験として直角プリズムを用いた斜入射干渉計による三次元形状測定システムを構築した.これらの実験装置は現有設備と今回導入したボード,ステージ,ピエゾ等によって可能とした.ここで,干渉稿の解析行いナノメートルオーダの分解能を得るため,参照ミラーを移動させる位相シフト法による位相検出と,プリズムを傾けてキャリア周波数を与えワンステップ位相シフト法の2つの解析法を可能とした.これによって0.1μmの精度で形状計測が可能となった.さらに,この応用として脆性材料のポアソン比の測定も行った.さらに,新たに提案した局所サンプリング斜入射干渉計を構成することにより高精度化を試みた.
さらに,次年度に斜入射干渉顕微鏡の開発のための基礎実験を行った.具体的には,格子を利用した格子型,2枚のハーフミラーを持ちいる反射鏡型と偏光プリズムを用いる偏光型の3種類の斜入射干渉計の実験を行った.
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