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本研究は有機EL素子の高信頼化を図るため、有機薄膜の構造を安定にする手法として、次の2点の方法を検討した。
1.放射線照射架橋による高分子化の可能性
2.光照射による高分子化(光重合)の可能性
両者において「高分子化」が重要な構造要因となる。低分子のけい光色素の一部を切断して、ラジカルを発生させ、近接する相互ラジカルを結合させることにより、高分子化を図る。1の方法では放射線が、2の方法では紫外線が分子結合を切断する。ただし、1の方法では、本実験においてはコバルト60を線源として利用しているので、分子切断エネルギーの選択性がない。現実に応用するにしても、線源を変えるとしても放射性元素の取り扱いはそれほど容易ではない。そのため、放射線のエネルギーによっては材料が架橋性か分解性かに分かれてしまい、後者の場合には放射線架橋は不可能である。一方、光重合では、本実験においては高圧水銀ランプの紫外線(波長365nm)を利用しているが、光の波長を変えることははるかに簡単である。
本年度では光重合の可能性を検討した。その結果、次のことがわかった。1.Alq3とTPDというよく用いられる試料において、光照射を行っても、紫外線により色素が分解し、重合はできなかった。2.上記において、放射線照射によりAlq3の分解を示唆するような結果が得られた。また、そのことによる発光効率の低下が認められる。3.けい光色素にジフェニルアセチレン誘導体を用いた場合には、三重結合の解裂と重合を示唆するデータが得られた。
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