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○パルス発振可能であり、且つ発振状態の制御が可能であるパルスマイクロ波電源の設計、試作および納入があり、発振状態の確認を行った。その結果、デューティーサイクルおよび発振波形の制御が可能であることが確認された。
○既存の水冷試料台を具備したマイクロ波プラズマCUD装置を用いて、次年度の予備実験として、添加ガスの影響について検討した。その結果、COガスの添加により、低温合成においても、膜質の向上が認められた。
○既存のマイクロ波プラズマCUD装置を用いて、次年度の予備実験として基板バイアスの影響について検討した結果、高温合成と比較して低温合成では、より高い-150-200Vの電圧で核生成密度の向上が認められた。
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