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空間的に近接した二つの金属中心を有する金属錯体の配位子として、同一平面に二つの窒素原子を有するピリダジン環に二つのジフェニルホスフィノメチル基を導入した窒素-リンハイブリッド四座配位子の合成を行った。まず、ピリダジンジエステルを水素化ホウ素ナトリウムにより還元しジ(ヒドロキシメチル)ピリダジンに誘導した。続いて水酸化カリウムとトシルクロライドによりトシレートとした後、リチウムジフェニルホスフィドと低温にて反応させることにより目的の四座配位子が得られた。また、ナフチリジン環を中心骨格とする窒素-リンハイブリッド四座配位子の合成も同様の手法を用いることにより成功している。
続いて、前者のハイブリッド四座配位子を用い二核遷移金属錯体の合成を行った。種々の後周期遷移金属前駆錯体との反応を行った結果、パイアリルパラジウム錯体を用いたときに相当する二核錯体が高収率で得られた。この錯体に関してはx線結晶構造解析にも成功しており、二つのパラジウムがねじれて配位しているC2対称を持つ錯体であることが確認された。また、アリル部位のプロトンNMRのピークは既知のパイアリル錯体とは大きく異なり、触媒反応において特異な反応性を示すことが期待できる。現在、この二核錯体を触媒として用いた有機合成反応について検討中である、その他、二つの異なる遷移金属を有するヘテロ二核錯体の合成についても検討を行ったが、期待される二核錯体は得られなかった。
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