| 研究概要 |
本研究では,波長λ=13nmの軟X線にたいしても60%の反射率が得られる反射増加多層膜を光学超薄膜を用いて形成する技術を基礎として,これを曲面鏡に適用し,直入射結像光学系を開発するために不可欠な高精度結像光学鏡を実用化することを目的とする.具体的には,結像性能を得るために必要なλ/10程度,すなわち1nmのオーダー以下の誤差で軟X線の波面を計測・制御するために,多層膜鏡やビームスプリッター(BS)などを基礎光学要素とした軟X線干渉計測法を開発する.また,この過程で,nm精度のアライメントシステムを備える干渉計測計本体に加え,実験室で干渉計測を可能とするための,光学系を飛散物で汚染しないYAGレーザー励起プラズマ軟X線光源の開発,軟X線干渉縞を計測処理する2次元検出データー処理系の開発を行い,光源から検出器までの結像光学システムの基本要素を完成させる.
本年度は,可干渉距離の短い実験室軟X線光源用にコモンパスとし,BSの波面精度の不足を補うために収斂部を設けて波面分割する2光束干渉光学系を考案し,その原理テストを行った.その結果,BSの角度微調で軟X線でも十分な干渉縞密度の制御が行える見通しがたった.これに平行し,干渉計測装置の設計を進め,干渉計を納める真空槽,精密微動支持台などの主要機械部分の製作に取りかかった.また,光源からの軟X線光を収斂させるための多層膜コンデンサーミラーを製作するために,多層膜の周期膜厚分布の制御装置を考案し,スパッタ成膜装置に取り付けて,動作テストを行った.この結果,補正前の分布30%を2%以内に改善出来た.この方法を改良して,1%以内の目標を達成する見通しがたった.
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