| 研究概要 |
本年度の研究概要は以下の通りである.
1,XPEEMの立ち上げ-CCDを装着し,これによりXPEEM像観察の高感度化を行う。現在X線源を装着して,エネルギーフィルター像の取得を行いつつある。
2,規整不均一触媒の調製: 本年度は,シリコン基板上への酸化物を均一にのせた均一薄膜調整法の確立を行った.V_2O_5とH_2O_2とを反応させ,その中にSb_2O_4を加えて,攪拌し,所定の粘度を持つsolを作製した.この溶液をシリコン基板上に展開し,VSbOxの均一な薄膜を調製しようとした.しかし,スピンコーティング法やDipping法を用いても,十分に均一な膜を作製することが出来なかった.この原因を探るため,様々な検討を加えたところ,有機物層による汚染が原因であることが分かり,その汚染の除去法を確立した.汚染を除去することにより良好なVSbOx膜を作ることが出来た.現在はこれに大きさの規定されたSbOxを作製することに取り組んでいる.
3,反応装置の立ち上げ,高感度の四重極マススペクトルを購入し,それを用いた反応装置の立ち上げを行いつつある.
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