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2001 年度 研究成果報告書概要

次世代超高温透光性耐火物-アルミニウムオキシナイトライドの物理化学とプロセッシング

研究課題

研究課題/領域番号 11555191
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分展開研究
研究分野 金属生産工学
研究機関東京工業大学

研究代表者

福山 博之  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助教授 (40252259)

研究分担者 永田 和宏  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 教授 (70114882)
須佐 匡裕  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 教授 (90187691)
金澤 幸  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助手 (80302967)
研究期間 (年度) 1999 – 2001
キーワード酸窒化アルミニウム / 窒化アルミニウム / 相安定図 / 標準生成ギブズエネルギー / 第三法則エンタルピー / III族窒化物 / 炭素熱還元窒化法 / 単結晶
研究概要

(1)酸窒化アルミニウム(alon)の標準生成ギブズエネルギーの決定を行った。ALN-Al_2O_3-C/N_2-COおよびalon-Al_2O_3-C/N_2-COを平衡させ、その気相の組成を四重極質量分析計およびガスクロマトグラフを用いて測定を行った。その結果より次式の反応の標準ギブズエネルギー変化を決定した。
Al_2O_3(s)+3C(s)+N_2(g)=2AlN(s)+3CO(g) [1] Δ_<r[1]>G^o/kJ=711.2-0.3534×T(±0.49)(1725〜1903K) (64+x)/(3x)Al_2O_3(s)+3C(s)+N_2(g)=2/xAL_<(64+x)/(3)>O_<32-x>N_x(AL_2O_3sat.)+3CO(g) [2] Δ_<r[2]>G^o/kJ=760.0-0.3788×T(±0.63)(1903〜2030K) (2)[1]式の反応の標準ギブズエネルギー変化から、第3法則を用いて298.15KにおけるAlNの標準生成エンタルピーを727.78(±0.49)/kJと求めた。この値を過去の熱量測定の結果と比較したところ、比較的良い一致を示し、この実験方法の妥当性を確認した。
(3)青色および紫外発光材料であるIII族窒化物用の基板材料として、高品位の単結晶AlN膜を単結晶α-Al_2O_3の窒化になって作製を行った。なおこの窒化の条件は、[1]で作製したAl-O-N-C系相安定図に従って選別を行った。この作製した窒化膜についてEPMAを用いて膜圧の測定を行い、さらにAFMを用いて表面形状を調べた。

  • 研究成果

    (12件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (12件)

  • [文献書誌] H.Fukuyama, W.Nakao, M.Susa, K.Nagata: "New Synthetic Method of Forming Aluminum Oxynitride by Plasma Arc Melting"Journal of the American Ceramics Society. 82[6]. 1381-1387 (1999)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [文献書誌] W.Nakao, H.Fukuyama, K.Nagata: "Gibbs Energy Change of Carbothermal Nitzidation Reaction of Al_2O_3 to Form AlN and Reassessment of Thermochemical Properties of AlN Potential"Journal of the American Ceramics Society.

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [文献書誌] H.Fukuyama, W.Nakao, K.Nagata: "Equilibrium N_2-CO Gas Compositions Coexisting with AlN-Al_2O_3-Graphite Measured by Quadrupole Mass Spectrometry"Fundamentals of Metallurgical Processing. 83-89 (2000)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [文献書誌] H.Fukuyama, W.Nakao, K.Nagata: "Potential Use of Aluminum Oxynitride as Advanced Refractories"Proceedings of ICS 2001. 623-632 (2001)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [文献書誌] W.Nakao, H.Fukuyama, K.Nagata: "AlN Firms Epitaxialy Formed by Direct Nitridation of Sapphire using Aluminum Oxynitride as a Buffer Layer"Proceedings Vol. of the Wide Bandgap Semiconductors for Photonic and Electronic Devices and Sensors symposium. (2002)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [文献書誌] H.Fukuyama, W.Nakao, K.Nagata: "Thermodynamics for Fabricating AlN/alon/sapphire Double Epitaxial Layers as an Advanced Substrate for Blue/Ultraviolet Optical Devices"Proceedings Vol. of the Wide Bandgap Semiconductors for Photonic and Electronic Devices and Sensors symposium. (2002)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [文献書誌] Hiroyuki Fukuyama: "New Synthetic Method of Forming Aluminum Oxynitride by Plasma Arc Melting"J. Am. Ceram. Soc.. Vol.82[6]. 1381-1387 (1999)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [文献書誌] Wataru Nakao: "Gibbs Energy Change of Carbothermal Nitridation Reaction of Al_2O_3 to Form AlN and Reassessment of Thermochemical Properties of AlN"J. Am. Ceram. Soc.. Vol.85[3] (in print). (2002)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [文献書誌] Hiroyuki Fukuyama: "Equilibrium N_2-CO Gas Compositions Coexisting with AlN-Al_2O_3-Graphite Measured by Quadrupole Mass Spectrometry"Proc. of James M. Toguri Symposium, Fundamentals of Metallurgical Processing, CIM, Ottawa, Canada, Aug.. 83-93 (2000)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [文献書誌] Hiroyuki Fukuyama: "Potential Use of Aluminum Oxynitride as Advanced Refractories"Proc. of 2nd International Conference on the Science & Technology of Steelmaking (ICS2001), Swansea, UK, Apr.. 623-632 (2001)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [文献書誌] Hiroyuki Fukuyama: "Thermodynamics for Fabricating AlN/alon/sapphire Double Epitaxial Layers as an Advanced Substrate for Blue/Ultraviolet Optical Devices"Proc. of 201st Meeting of The Electrochemical Society, Inc., Philadelphia, Pennsylvania, USA, May. (in print). (2002)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [文献書誌] Wataru Nakao: "AlN Films Epitaxialy Formed by Direct Nitridation of Sapphire using Aluminum Oxynitride as a Buffer Layer"Proc. of 201st Meeting of The Electrochemical Society, Inc., Philadelphia, Pennsylvania, USA, May. (in print). (2002)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より

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公開日: 2003-09-17  

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